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    • 低溫制冷循環(huán)水溫機
      低溫制冷循環(huán)水溫機

      更新時(shí)間:2023-11-17

      型號:

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      低溫制冷循環(huán)水溫機廣泛用于各種實(shí)驗研究用儀器及工業(yè)生產(chǎn)用設備發(fā)熱部的冷卻恒溫作用分析儀器:原子吸收、質(zhì)譜儀、旋光儀。 醫療設備:降溫毯。工業(yè)設備及激光設備: 生物制藥。 科學(xué)實(shí)驗設備:分子泵旋轉蒸發(fā)儀、蒸餾器、發(fā)酵裝置、激光器、金屬快速成型裝置、真空鍍膜機。
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    • QR-25W智能低溫恒溫槽
      QR-25W智能低溫恒溫槽

      更新時(shí)間:2023-11-17

      型號:QR-25W

      瀏覽量:3717

      智能低溫恒溫槽產(chǎn)品說(shuō)明:采用機械全封閉制冷降溫速度快,控溫精度準。壓縮機高低壓,壓縮機過(guò)熱,電流負載等多重保護確保安全可靠。
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    • -40℃~30℃低溫制冷循環(huán)器搪瓷反應釜配套設備
      -40℃~30℃低溫制冷循環(huán)器搪瓷反應釜配套設備

      更新時(shí)間:2023-11-17

      型號:-40℃~30℃

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      低溫制冷循環(huán)器搪瓷反應釜配套設備,低溫制冷循環(huán)器采用全密閉設計,低溫運行過(guò)程無(wú)吸水,保證冷導熱介質(zhì)的純度,防止冰晶,提供導熱液壽命。高性能循環(huán)泵,可保證每天連續24小時(shí)運行。
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    • LX-20A制冷循環(huán)低溫冷凍機
      LX-20A制冷循環(huán)低溫冷凍機

      更新時(shí)間:2023-11-17

      型號:LX-20A

      瀏覽量:3032

      制冷循環(huán)低溫冷凍機半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻:?jiǎn)尉磧艮D載、印刷機、自動(dòng)夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻:激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。
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    • LX-145低溫制冷循環(huán)器
      LX-145低溫制冷循環(huán)器

      更新時(shí)間:2023-11-17

      型號:LX-145

      瀏覽量:7268

      低溫制冷循環(huán)器使用范圍:對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻:?jiǎn)尉磧艮D載、印刷機、自動(dòng)夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻:激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。
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    • LX-0250低溫冷卻循環(huán)器泵
      LX-0250低溫冷卻循環(huán)器泵

      更新時(shí)間:2024-01-18

      型號:LX-0250

      瀏覽量:3876

      低溫冷卻循環(huán)器泵采用阿斯帕拉、丹弗斯、美優(yōu)樂(lè )、谷輪等品牌壓縮機,性能穩定,可持續工作,微電腦溫度控制器,溫度數字顯示,調節單位0.1度,溫度范圍5度~35度可調。
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    • 制冷循環(huán)冷水機
      制冷循環(huán)冷水機

      更新時(shí)間:2023-11-17

      型號:

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      制冷循環(huán)冷水機使用范圍:對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻:?jiǎn)尉磧艮D載、印刷機、自動(dòng)夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻:激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。其他產(chǎn)業(yè)用機器發(fā)熱部分的冷卻:
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    • LX-70低溫冷卻循環(huán)器泵
      LX-70低溫冷卻循環(huán)器泵

      更新時(shí)間:2024-01-18

      型號:LX-70

      瀏覽量:2597

      LX-70低溫冷卻循環(huán)器泵對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻:?jiǎn)尉磧艮D載、印刷機、自動(dòng)夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。
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